2025-07-17 00:18:18
簡介/電鍍[工藝]編輯電鍍電鍍(Electroplating)就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程。電鍍時,鍍層金屬做陽極,被氧化成陽離子進入電鍍液;待鍍的金屬制品做陰極,鍍層金屬的陽離子在金屬表面被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的干擾,且使鍍層均勻、牢固,需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液,以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。基本概述/電鍍[工藝]編輯電鍍電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層(de****it),改變基材表面性質或尺寸。電鍍能增強金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導電性、潤滑性、耐熱性、和表面美觀。利用電解作用在機械制品上沉積出附著良好的、但性能和基體材料不同的金屬覆層的技術。電鍍層比熱浸層均勻,一般都較薄,從幾個微米到幾十微米不等。通過電鍍,可以在機械制品上獲得裝飾保護性和各種功能性的表面層,還可以修復磨損和加工失誤的工件。鍍層大多是單一金屬或合金,如鋅、鎘、金或黃銅、青銅等;也有彌散層,如鎳-碳化硅、鎳-氟化石墨等;還有覆合層,如鋼上的銅-鎳-鉻層、鋼上的銀-銦層等。電鍍的基體材料除鐵基的鑄鐵、鋼和不銹鋼外,還有非鐵金屬。浙江共感電鍍有限公司為您提供 電鍍產品,期待為您產品!江蘇陶瓷電鍍鍍鋅
零件托板的下側右端固定連接有固定套,固定套上通過螺紋連接有緊固螺釘,t形架在左右方向上滑動連接在固定套上,緊固螺釘頂在t形架上,t形架右部的前后兩端均固定連接有三角塊,兩個三角塊的斜相對設置,兩個三角塊均位于零件托板的上側,零件托板位于電鍍液盒內,電鍍液盒的左右兩端分別設置有陰極柱和陽極柱。所述電鍍系統還包括圓片、限位銷、接觸片、接觸柱、橫片、圓形擋片和彈簧套柱,陰極柱的下端固定連接有圓片,圓片的下側固定連接有接觸柱,接觸柱的下側固定連接有接觸片,橫片的中部轉動連接在接觸柱上,接觸柱上固定連接有限位銷,圓片和限位銷分別位于橫片的上下兩側,橫片下側的前后兩端均固定連接有彈簧套柱,兩個彈簧套柱分別在豎向滑動連接在零件托板的前后兩端,兩個彈簧套柱的下端均固定連接有圓形擋片,兩個彈簧套柱的下部均套接有壓縮彈簧,兩個縮彈簧均位于零件托板的下側,兩個縮彈簧分別位于兩個圓形擋片的上側。所述電鍍系統還包括左絕緣塊、絕緣桿、圓轉盤和電機,陰極柱固定連接在左絕緣塊上,左絕緣塊上固定連接有電機,電機的輸出軸上固定連接有圓轉盤,絕緣桿的一端鉸接連接在圓轉盤的偏心位置,絕緣桿的另一端鉸接連接在橫片上。江蘇陶瓷電鍍鍍鋅浙江共感電鍍有限公司致力于提供 電鍍產品,歡迎您的來電!
微盲孔之孔徑在3mi以下之淺小而多用于封裝載板者,實填的問題還不算嚴重,某幾種商業鍍銅制程也還頗能讓人滿意。然而增二式手機板其BGA球腳墊內的二階盲孔,不但口徑大到6-8mil之間,且其漏斗形深度也接近3mil。加以**新亮相超難密距(-Pitch)的拉近與擠壓墊面空間,使得墊徑又被緊迫縮小到只剩下12-14mil左右,逼得盲孔表面的環寬竟只剩下3mil而已。如此局限又險惡地形之錫膏承焊,安得不令八頻捏大把冷汗?是故填孔鍍銅幾乎已經成為勢在必行的工藝了。電鍍銅預布焊料之填孔***一點的讀者也許還記得,七年前Pentium(586)的時代,其CPU是采“卷帶自動結合(TAB)的封裝方式。此大型晶片封裝完工之多腳組件,下游還要進行板面的貼焊組裝。該QFP四邊外伸貼焊之I/O共得320腳,單邊80只平行伸腳彼此之密集櫛比,逼得承接的長方焊墊也隨之并肩鱗次,密密麻麻,方寸之間逼得相鄰腳墊之跨距(Pitch)擁擠到不足10mil!墊寬(Width)*5mil,墊距(SPacing)更在5mil以下的艱困境界。如此之密距多墊及狹面之高難度錫膏印刷,有誰能夠保證不出差錯?即使錫膏印刷得以過關,其后續的放置(Placement)踩腳與高溫熔焊(Reflow)之二種更難工序。
無氰鍍液有堿性鋅酸鹽鍍液、銨鹽鍍液、**鹽鍍液及無氨氯化物鍍液等。**鍍鋅溶液均鍍能力好,得到的鍍層光滑細致,在生產中被長期采用。但由于**物**,對環境污染嚴重,已趨向于采用低氰、微氰、無氰鍍鋅溶液。[2]電鍍工藝工藝過程編輯一般包括電鍍前預處理,電鍍及鍍后處理三個階段。完整過程:1、浸酸→全板電鍍銅→圖形轉移→酸性除油→二級逆流漂洗→微蝕→二級浸酸→鍍錫→二級逆流漂洗2、逆流漂洗→浸酸→圖形電鍍銅→二級逆流漂洗→鍍鎳→二級水洗→浸檸檬酸→鍍金→回收→2-3級純水洗→烘干塑膠外殼電鍍流程:化學去油→水洗→浸**→水洗→化學粗化水洗敏化→水洗→活化→還原→化學鍍銅→水洗光亮**鹽鍍銅→水洗→光亮**鹽鍍鎳→水洗→光亮鍍鉻→水洗烘干送檢。在以上流程中,**易出現故障的是光亮**鹽鍍銅,其現象是深鍍能力差及毛剌、粗糙等,對深鍍能力差,應區別對待,如果低電流區不亮,而高電流區很亮且偏于白亮,則可考慮N(乙撐硫脲)是否過多,調整辦法逛加入適量M(2-巰基苯駢瞇脞)及SP(聚二硫二丙烷磺酸鈉),如仍不行,可加入50?100ml雙氧水攪拌10分鐘試鍍,如果低電流區不亮,高電流區很亮且偏于桔紅色亮,測可考慮M是否過多。電鍍產品,就選浙江共感電鍍有限公司,用戶的信賴之選,有需求可以來電咨詢!
與沉積速度有關)、分散能力、深鍍能力、鍍層結晶狀態、鍍液穩定性和可操作性(包括工藝條件的控制、對設備有無特別要求)、對環境的影響程度、經濟效益(電鍍加工成本)等。鍍層性能指標是電鍍工藝所保證的鍍層性能和質量的指標,是直觀地評價電鍍工藝水平的重要指標。比如鍍層的裝飾性能、光亮程度、抗腐蝕性能、鍍層脆性、鍍層孔隙率等。功能性鍍層則要加上功能性能指標,比如電導率、反射光系數、可焊性、耐磨性等。這兩類指標都屬于水平較高的**工藝,有時鍍液性能指標好的工藝,不一定有好的鍍層指標;而有些鍍層指標好的工藝,鍍液指標卻并不好。人們通常以鍍層指標為主來判斷和選擇電鍍工藝,也就是說為了獲得好的鍍層有時不得不采用鍍液性能差的鍍種,比如裝飾鍍鉻就是典型的例子。許多**物電鍍也是鍍層性能好但對環境影響大的鍍種。電鍍工藝電鍍工藝參數的管理編輯由于工藝管理直接影響到生產的效率和產品的成本。因此,對工藝參數的管理要講合理性,管得不好,會經常停產調整鍍液,這是很大的浪費。但是,管得過頭,會增加管理成本,增加資源的額外消耗,也是要不得的。通過電鍍工藝參數的構成可以將這些參數分為兩大類,一類是建立生產線過程中。浙江共感電鍍有限公司為您提供 電鍍產品,期待您的光臨!江蘇表面電鍍品牌
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于是在酸性溶液中可得到的SHE如下:H2-->2H+十2e-EO=若以此SHE為0作為參考電位,再連接上鹽橋與電位計而可得到銅離子在酸液中對銅棒的標準電極電位(StandardElectrodePotential)可測得為:Cu++十2e--->CuE0=從電鍍的觀念來說,銅離子接受了電子而沉積成為銅金屬,是在陰極上所發生的還原反應。然而若按“電子流”的方向與一般電路中直流電流(Current)方向是相反的習慣看來(科學界當年將電流的定義弄錯了),其電流又是從正極流向負極的說法時,則被鍍物卻成了正極,而銅陽極卻又成此種邏輯的"負極"。由于錯誤的習慣由來已久無法更改,故讀者們研讀或討論電鍍時,只宜采用陰極與陽極的觀念,千萬不要引用一般電路中正極與負極的思維,以免造成彼此間雞同鴨講的莫名其妙!電鍍銅電動次序表于是將各種金屬在酸性溶液或堿性溶液中,針對氫氣的參考電極---進行量測,而得到各種金屬的“標準電極電位”,并按數值次序制作成表格,此表即稱為賈凡尼次序(GalvanicSeries)或“電動次序表”(TheElectromotiveForceseries)。此表中各元素按電位排名低于氫電位者(指列表的上位)標以負號,負值愈負者,即表示其活性度愈高,在自然環境中愈容易失去電子而氧化。江蘇陶瓷電鍍鍍鋅